中国首创刻蚀技术被全球抄作业 创新引领行业变革

中国首创刻蚀技术被全球抄作业 创新引领行业变革。在《对话》节目中，中微半导体设备（上海）股份有限公司董事长兼总经理尹志尧被问及公司如何在泛林和应用材料垄断的刻蚀机装备市场中取得突破。尹志尧表示，中微公司开发了甚高频去耦合反应离子刻蚀技术，这项技术在三年后被国际三大设备公司全部效仿，目前全球所有的CCP刻蚀机均采用该技术。此外，中微还首创了双台机设计，这一设计能够节省超过30%的材料成本，不仅售价低于国际供应商，而且性能更优。