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中国团队成功研制新型晶体管 刷新频率纪录

沄森™2026-06-09
中国科学院金属研究所孙东明、刘驰团队联合多家科研单位,在高频晶体管领域取得重要突破。他们成功研制出国际上首款实现射频测试的硅-石墨烯-锗势垒晶体管,刷新了垂直二维基区晶体管的截止频率纪录,并创造了晶体管电流增益的世界最高值

中国科学院金属研究所孙东明、刘驰团队联合多家科研单位,在高频晶体管领域取得重要突破。他们成功研制出国际上首款实现射频测试的硅-石墨烯-锗势垒晶体管,刷新了垂直二维基区晶体管的截止频率纪录,并创造了晶体管电流增益的世界最高值。相关成果发表于国际学术期刊《自然·通讯》。

随着5G规模化部署和6G前瞻研究加速,物联网、智能传感和高速通信对晶体管的工作频率提出了更高要求,需要突破1太赫兹(THz)。

研究团队提出了一种全新的器件架构,将晶圆级单晶单层石墨烯通过化学气相沉积外延生长于锗衬底上,再精确堆叠单晶硅膜,构筑出高质量的硅-石墨烯-锗垂直异质结构。利用石墨烯与硅、锗界面形成的不对称肖特基势垒以及石墨烯的量子电容效应,实现了功函数调控,使得锗端的电流变化幅度远大于硅端,从而产生了1.8×10^7的共射极电流增益,创下目前已报道晶体管中的最高纪录。

在射频实测中,该晶体管的本征截止频率达到132GHz,超越了过去所有垂直二维基区晶体管的最高水平。进一步的器件建模与仿真分析表明,通过优化材料掺杂浓度、降低接触电阻及缩减寄生效应,该器件的理论工作频率有望突破1THz,进入太赫兹应用频段。

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