中国芯片刻刀终于出鞘 打破28纳米制程垄断

中国芯片刻刀终于出鞘 打破28纳米制程垄断！刘腾，滨化集团特种化学品事业部总经理，提到从5N到6N的纯度提升，不是简单的多提纯一次，而是一整套全新纯化体系的建立。6N代表99.9999%的纯度，意味着每100万个分子里杂质不能超过1个。这个纯度对28纳米及以下先进制程至关重要，没有这个纯度，手机芯片、AI算力卡和自动驾驶芯片等都会受到影响。

高纯氟化氢是芯片晶圆制造中的“精密刻刀”。一粒直径不足头发丝万分之一大小的金属尘埃就足以让整片晶圆报废。电子级氢氟酸在蚀刻硅片和清洗晶圆表面时，其纯度及稳定性直接关乎芯片的良率与性能。然而，中国长期依赖进口6N级高纯氟化氢，西方垄断了全球约80%的市场份额，市场价格已超过200万元/吨。

7月19日，滨化集团举行了电子级高纯氟化氢气体投产暨新产品发布会，宣布6N等级（99.9999%）半导体用高纯氟化氢打破垄断，为国内先进制程提供稳定、安全的国产化保障。很多人以为纯度提升就是“多过滤几遍”，但实际并不简单。氟化氢中的杂质如水、二氧化碳和含氧有机物互溶，难以分离。滨化集团通过设计多重精馏耦合系统，在特定压力梯度下实现碳氧杂质的深度脱除，相当于造了一套“分子级别的分拣机”。