集成电路布图设计保护条例发布 强化专有权保护与运用

近日，修订后的《集成电路布图设计保护条例》公布，自2026年10月15日起施行。该条例旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励技术创新，促进科学技术发展。条例共6章54条，主要修订内容包括明确总体要求、完善申请和审查程序、加强专有权保护以及促进布图设计运用。

条例强调贯彻党和国家的知识产权战略部署，扩展保护范围，强调诚实信用。在申请和审查程序方面，规制虚假申请，细化材料要求，完善驳回和撤销程序，并增加权利恢复程序。对于专有权保护，明确了权利范围界定标准，加大侵权赔偿力度。此外，条例还加强了公共服务，明确了奖酬措施，完善了转让、许可、出质要求，并规范了共有人权利行使。

司法部和国家知识产权局负责人就条例的相关问题进行了回答。现行条例自2001年起实施，在保护集成电路布图设计专有权和鼓励创新方面发挥了积极作用。随着技术快速发展，修订现行条例以更好地满足实践需求变得必要。

修订遵循的总体思路是贯彻落实党中央和国务院关于加强知识产权法治保障的决策部署，强化集成电路布图设计保护和运用；聚焦当前突出问题，完善相关制度，将实践中行之有效的做法上升为行政法规；并与有关法律法规及国际条约做好衔接。

在申请和审查程序方面，条例规定布图设计登记申请应基于真实创作活动，不得弄虚作假。增加了独创性声明要求，提交的复制件或图样需清楚显示具有独创性的部分。若申请明显不符合规定，则予以驳回；获准登记后发现不符合规定的，可请求撤销。登记被撤销时，专有权视为自始不存在。当事人因不可抗拒的事由或其他正当理由延误期限导致权利丧失的，可以请求恢复权利。

在加强专有权保护方面，受保护的布图设计以登记的复制件或图样为准，独创性声明可用于解释其独创性。侵权赔偿额按照实际损失或侵权人获利确定，难以确定时参照许可使用费合理确定，情节严重时适用惩罚性赔偿。

为了促进布图设计运用，国务院知识产权行政部门将与相关部门合作，采取措施加强公共服务。法人或非法人组织主持创作布图设计时，应对符合条件的人员给予合理奖励和报酬。条例还完善了转让、许可、出质要求，并规定共有人对权利行使有约定的从其约定，许可他人使用的费用应在共有人间分配。

国家知识产权局将与有关部门共同做好条例的贯彻实施工作，包括加大宣传解读力度、完善配套制度以及切实抓好实施工作。