光刻机概念延续强势，新莱应材、南大光电涨超10%

　　6月5日，光刻机（胶）概念延续强势，新莱应材（300260）（300260.SZ）、南大光电（300346）（300346.SZ）涨超10%，沃格光电（603773）（603773.SH）、XD百合花（603823）（603823.SH）涨停，江化微（603078）（603078.SH）、苏大维格（300331）（300331.SZ）、晶瑞电材（300655）（300655.SZ）、亚威股份（002559）（002559.SZ）、上海新阳（300236）（300236.SZ）跟涨。

　　消息面上，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示，除芯片制造外，该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。